Utveckling av en ny glanskoppar-elektrolyt
Utvecklingen av en stabil och pålitlig glanskoppar-elektrolyt har inneburit flera utmaningar, särskilt vid valet och doseringen av glansbildaren. I de tidiga forskningsfaserna använde vi en glansbildare med exceptionell effektivitet och långvarig stabilitet. Även vid timmar långa beläggningsprocesser bibehölls glansen, medan andra glansbildare i jämförbara system snabbt bröts ner.
Dock var denna glansbildare extremt känslig för variationer i doseringen. Även en minimal underskridning av den optimala koncentrationen resulterade i matta ytor, medan en liten överdosering visserligen gav en blank yta men ofta ledde till ojämna och randiga skikt.
Trots intensiva försök att stabilisera denna känslighet genom kemiska buffertar var resultaten otillfredsställande. Buffertarna kunde inte tillräckligt reglera glansbildarens reaktivitet, vilket ledde till stora variationer i utfällningen. Utmaningen var att hitta en metod som möjliggjorde både en jämn glansbildning och en konsekvent skiktkvalitet.
För att lösa dessa problem valde vi att ändra vår forskningsinriktning och utveckla en mer stabil och mindre känslig lösning. Genom intensiv hybridforskning lyckades vi skapa en ny glanskoppar-elektrolyt som erbjuder en optimal balans mellan glans och utjämning. Denna elektrolyt ger en jämn och glänsande beläggning som förblir stabil även vid variationer i dosering. Särskilt anmärkningsvärt är att den nya elektrolyten även ger utmärkta resultat vid penselgalvanisering, där den skapar stabila och estetiskt tilltalande ytor.
Genom denna innovation har vi inte bara förbättrat kvaliteten och stabiliteten hos kopparutfällningen avsevärt, utan också breddat tillämpningsområdet för glanskoppar-elektrolyten. Den är nu en pålitlig lösning för en mängd olika användningsområden.
